HTHP-UV-Vis-500 高温高压紫外可见漫反射装置

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HTHP-UV-Vis-500
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产品名称: HTHP-UV-Vis-500 高温高压紫外可见漫反射装置

光照与压力的交响!在500℃高温与30bar高压下,实时洞察材料的电子跃迁与表面过程。

品牌名称: 北京中研环科 

销售平台: PRONOVATION | 普诺实验商城

核心优势

  • 极端条件耦合,模拟真实光反应环境: 独创性地将 紫外可见光谱 探测与 高温(500℃)高压(30bar) 反应条件相结合,为您提供在接近真实工业环境下研究光催化、光电催化及高压液相反应过程的强大平台。
  • 高压密封与光纤接口,信号稳定可靠: 采用特殊设计的 蓝宝石窗口 与光纤接口,确保在高压环境下保持优异的光学通透性与信号传输稳定性,同时保障了整个系统的密封安全与操作便捷。
  • 精准温控与全面保护,实验安全无忧: 内置 高效水冷系统 与精密温度控制(精度±1℃),确保设备在长期高温高压实验中,外壳温度始终低于60℃,全方位保障人员与设备安全。
  • 模块化与多功能设计,应用无限可能: 装置支持与多种光谱仪及光源联用,并可灵活切换不同规格的反应池,满足从气固相催化到高压液相反应等多种研究场景的原位表征需求。

产品概述

北京中研环科 HTHP-UV-Vis-500 高温高压紫外可见漫反射装置,现由 PRONOVATION 普诺实验商城 为您提供。此装置是研究材料在苛刻条件下光学性质与反应机理的里程碑式产品。它使科学家能够实时监测在高温高压环境中,催化剂的能带结构、价态变化、配位环境等关键信息的演变,为开发新一代高效光催化剂、阐明复杂反应机制提供了前所未有的原位研究工具。

技术规格

  • 品牌: 北京中研环科
  • 适用技术: 紫外可见漫反射光谱(UV-Vis DRS)
  • 温度范围: 室温 ~ 500℃
  • 控温精度: ±1℃
  • 压力范围: 最高 30 bar
  • 光学窗口: 蓝宝石窗口
  • 信号接口: 光纤接口
  • 气氛环境: 可抽真空,可通入各种反应气体
  • 主体材质: 316L 不锈钢
  • 冷却系统: 水冷循环,确保外壳温度 < 60℃

典型应用

  • 光催化材料(如TiO₂, g-C₃N₄)在高压反应条件下的 活性机理 与 失活机制 研究
  • 催化剂在 费托合成、加氢反应 等高压过程中的 价态与配位环境 演变监测
  • 能源材料(如锂电、光电材料)在 高温高压 工况下的 结构与性能 关联性分析
  • 各类 纳米功能材料 的 能带隙 测定与 电子结构 随温度压力的变化研究
  • 在 模拟真实工业条件 下进行新型催化剂的 性能评估 与 筛选
品牌:
北京中研环科原位表征系统定制