更多气固催化原位测试装置类型_北京中研环科
产品名称： HPCVD-1000 高温高压化学气相沉积装置
创境新生，驭变于微！集成1000℃高温与正负压环境，为您开启先进材料合成与改性新维度。
品牌名称： 北京中研环科
销售平台： PRONOVATION | 普诺实验商城
核心优势
- 高温高压联控，拓展材料合成边界： 集1000℃高温与正压/负压环境于一体，提供远超常规CVD的反应条件，显著促进前驱体裂解与沉积动力学，为您合成高质量金刚石薄膜、碳纳米材料及特种陶瓷提供强大动力。
- 真空与压力自由切换，应用场景全覆盖： 系统可在高真空（5x10⁻⁴ Pa） 与正压环境间灵活切换，既能满足常规CVD制备对洁净环境的要求，也能实现高压退火、气氛烧结等特殊工艺，一机多用。
- 工业级结构与精准温控，稳定可靠： 采用双层水冷不锈钢腔体与高纯石墨加热体，确保设备在极端条件下的长期稳定性。程序控温精度高，升温速率可控，保障实验的重复性与材料的一致性。
- 模块化气路与安全设计，操作便捷安心： 配备多路质量流量计（MFC） 实现气体精准配比，集成过温、过压、漏电保护等多重安全联锁机制，确保复杂的材料合成过程安全、可控、易于重复。
产品概述
北京中研环科 HPCVD-1000 高温高压化学气相沉积装置，现由 PRONOVATION 普诺实验商城 为您提供。本装置不仅是一款材料合成设备，更是一个探索前沿材料的综合科研平台。它通过精确控制温度、压力与反应气氛，为金刚石、石墨烯、氮化硼等高性能薄膜与块体材料的制备，以及材料的表面改性、掺杂和热处理，提供了强大而灵活的解决方案，是推动新材料从实验室走向应用的得力工具。
技术规格
- 品牌： 北京中研环科
- 腔体设计： 双层水冷不锈钢结构
- 温度范围： 最高 1000℃
- 真空度： 最高 5x10⁻⁴ Pa
- 压力范围： 支持负压（真空）至正压环境
- 加热体： 高纯石墨
- 气路系统： 多路质量流量计（MFC）控制
- 安全系统： 过温、过压、漏电保护
- 样品台： 定制化设计，可适配多种基片
典型应用
- 超硬薄膜与涂层：高品质金刚石薄膜、立方氮化硼（c-BN）涂层的制备
- 低维纳米材料：石墨烯、碳纳米管等材料的可控生长与掺杂
- 半导体薄膜：硅基、宽禁带半导体外延膜的沉积
- 材料表面工程：工模具、部件的耐磨、耐腐蚀涂层处理
- 特种陶瓷与复合材料：在高压环境下进行新材料烧结与合成探索
工作原理图详见下图
品牌:
北京中研环科原位表征系统定制
