MKS Instruments 626T12TAE， XDCR，100TORR，1/2 TUBE，0.25%，24VDC，绝对过程测量-环境温度，绝对过程测量环境温度，PN 626D12TAE9
MKS Instruments 626T12TAE 产品详情介绍
MKS Instruments 的 626T12TAE 压力传感器，产品编号为 PN 626D12TAE9，是一款专为严苛环境下精确测量设计的先进设备，尤其在绝对过程测量与环境温度监测方面表现卓越。
一、关键技术参数
- 压力测量范围：这款传感器具备 100 Torr 的全量程压力测量能力，适用于多种真空及压力测量场景，从半导体制造的精细工艺到工业生产的常规压力监测，都能精准胜任。
- 测量精度：其测量精度可达满量程的 0.25%，这意味着在整个 100 Torr 的测量范围内，测量误差极小，能够为科研实验与工业生产提供高度可靠的数据支持，确保工艺过程的稳定性与一致性。
- 接口规格：采用 1/2 TUBE 规格接口，方便与各类管道、设备进行连接，这种标准接口设计提升了产品的通用性与兼容性，便于在不同系统中快速集成。
- 供电要求：工作电压为 24VDC，稳定的直流供电保障了传感器在长时间运行过程中的性能稳定性，适应各类工业及科研场所的电力供应环境。
二、工作原理
626T12TAE 运用先进的电容式传感技术，通过检测压力使隔膜变形时电容的变化来实现压力测量。传感器内部的隔膜采用镍基合金 Inconel 制造，这种材料具有出色的耐腐蚀性，且经过全焊接处理，保障了结构的完整性与密封性。当压力作用于隔膜时，隔膜与相邻电极盘之间的电容发生变化，该变化经专利信号调节电路转换为可用的输出信号。由于隔膜采用径向张紧设计，响应速度极快，在多数情况下小于 20 毫秒，具备低滞后性、高分辨率（可达满量程的 0.001%）以及卓越的重复性，能够实时且精准地捕捉压力变化。
三、应用场景
- 半导体制造：在半导体生产过程中，如等离子蚀刻、化学气相沉积（CVD）等工艺环节，对真空环境的压力控制要求极高。626T12TAE 可精确监测反应腔室的压力，确保工艺条件的稳定性，有助于提高芯片制造的精度与良品率，保障半导体产品的质量。
- 工业真空系统：广泛应用于工业领域的真空系统，如真空镀膜、真空干燥、真空包装等设备。它能够准确测量系统内的真空度，帮助操作人员及时调整设备运行参数，维持生产过程的高效稳定运行，避免因压力异常导致的产品质量问题或设备故障。
- 科研实验室：在科研实验中，尤其是涉及到对压力条件敏感的实验，如材料研究、物理化学实验等，626T12TAE 的高精度测量特性能够为实验数据的准确性提供保障，助力科研人员获得可靠的研究成果。
四、产品优势
- 环境适应性强：可在环境温度条件下稳定工作，对使用环境的温度要求较为宽泛，适用于多种复杂的工作环境，无论是高温车间还是常温实验室，都能正常发挥其测量功能。
- 结构坚固耐用：采用双壁焊接结构，不仅提高了传感器的机械强度，还增强了其密封性与安全性，传感器本身可承受高达 45 psia（3.1 bar）的压力冲击而不发生永久性损坏或性能漂移，能够在工业生产中频繁的压力波动环境下长期稳定运行。
- 信号输出便捷：可提供线性的模拟输出信号，易于与 MKS 压力控制器、MKS 电源 / 显示仪器或其他符合要求的仪器设备进行连接与数据交互，方便用户进行系统集成与控制，实现对压力数据的实时监测与处理。
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品牌:
美国MKS Instruments
